GVC-1000 Sputter iónico automático Sputter iónico DC
Cantidad
- Operación totalmente automática, fácil de usar, muy adecuada para filamentos de tungsteno, microscopios electrónicos de barrido de escritorio, etc.
- Ajuste automático de la corriente de pulverización——Después de establecer la corriente de pulverización catódica, el sistema ajusta automáticamente el grado de vacío para lograr la corriente de pulverización catódica establecida. El tiempo de ajuste es inferior a 5 s y el rango de fluctuación es inferior a ±5%;
No hay necesidadPresiona el botón "Experimentar" para ajustar la corriente de pulverización.No se requiere acción"Válvula de admisión".
- Memoria automática del tiempo de pulverización——Las muestras del mismo tipo se pueden configurar una vez;
- Ajuste automático cuando cambian los parámetros——La corriente de pulverización y la duración de la pulverización se pueden ajustar en cualquier momento durante el proceso de pulverización. El sistema calcula automáticamente la superposición sin detener el proceso de pulverización;
- Desinflar automáticamente cuando se completa el trabajo;
- El ajuste de altura de la platina de la muestra se completa en 1 segundo;
- El proceso de pulverización catódica se puede mostrar usando una curva, lo cual es claro e intuitivo.
- Enclavamiento de software y hardware, previniendo mal funcionamiento, seguro y fiable
- Cuando el grado de vacío es superior a 100 Pa, se activa la protección de vacío y la pulverización es imposible;
- Cuando la corriente de sputtering es superior a 50 mA, el proceso de sputtering se detiene;
- Cuando la bomba de vacío está funcionando, el sistema no puede realizar la operación de desinflado;
- Recubrimiento uniforme y buena conductividad
Parámetros técnicos:
Voltaje de entrada | CA 220 V ± 10 %, 50 Hz |
Voltaje de funcionamiento | DC2400V |
Potencia máxima (motor principal y bomba mecánica) | 500 W |
| principio de funcionamiento | Pulverización DC |
Material objetivo opcional | Metales comunes como el oro, platino, plata, cobre, aluminio, plomo, etc. |
bomba de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas de dos etapas de conexión directa 1 L/s |
Cámara de vacío | φ128×130mm |
Taza de muestra | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
Tamaño de la máquina (largo x ancho x alto) | 424×271×255（mm） |
Peso (host) | 11 kilos |
entorno de trabajo | Temperatura 5～40℃, humedad <60% |
Entorno de almacenamiento | Temperatura -10~60℃, humedad <80% |
Gas de trabajo | Aire / Ar |
Función protectora | Doble protección contra sobrecorriente y vacío |
| Productos promocionales Se acerca el gran descuento No se debe desperdiciar el valor |
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