
La fuente de alimentación para electrodeposición pulsada de metales preciosos se utiliza principalmente para la electrodeposición de metales preciosos como oro, plata, titanio, tungsteno, molibdeno, rutenio y circonio. Ya sea para electrodeposición gruesa o electrodeposición de pulido, el uso de esta fuente de alimentación puede demostrar la gran ventaja de ahorrar materiales. Al mismo tiempo, la planitud y suavidad de la superficie son más de dos niveles superiores a las de otras fuentes de alimentación.
Función y materiales principales;