GVC-1000 Sputter de Íons Automático Sputter de Íons DC

Certificação necessária
110 dias
Mín. R$ 278.327 (7 un.)
Fornecedor 5.0

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Especificações do produto
Origem
China
Marca
Domestic
Modelo
GVC-1000
Escopo do produto
Gold, platinum, silver, copper, aluminum, lead and other common metals
Faixa de medição
Sample cup: 90 × 1/inch 25 × 4/inch 15 × 6
Dimensão geral
424×271×255(mm)
Peso
11
Origem
China
Marca
Domestic
Modelo
GVC-1000
Escopo do produto
Gold, platinum, silver, copper, aluminum, lead and other common metals
Faixa de medição
Sample cup: 90 × 1/inch 25 × 4/inch 15 × 6
Dimensão geral
424×271×255(mm)
Peso
11
Origem
China
Marca
Domestic
Modelo
GVC-1000
Escopo do produto
Gold, platinum, silver, copper, aluminum, lead and other common metals
Faixa de medição
Sample cup: 90 × 1/inch 25 × 4/inch 15 × 6
Dimensão geral
424×271×255(mm)
Peso
11
Detalhes do produto
O texto nas imagens pode ser traduzido
  1. Operação totalmente automática, fácil de usar, muito adequada para filamentos de tungstênio, microscópios eletrônicos de varredura de bancada, etc.
  • Ajuste automático de corrente de pulverização——Após definir a corrente de pulverização, o sistema ajusta automaticamente o grau de vácuo para atingir a corrente de pulverização definida. O tempo de ajuste é inferior a 5s e a faixa de flutuação é inferior a ±5%;

Não há necessidadePressione o botão "Experimentar" para ajustar a corrente de pulverização.Nenhuma ação necessária"Válvula de admissão".

  • Memória automática do tempo de pulverização——Amostras do mesmo tipo podem ser definidas uma vez;
  • Ajuste automático quando os parâmetros mudam——A corrente de pulverização e a duração da pulverização podem ser ajustadas a qualquer momento durante o processo de pulverização. O sistema calcula automaticamente a sobreposição sem interromper o processo de pulverização;
  • Desinflar automaticamente quando o trabalho for concluído;
  • O ajuste de altura da platina da amostra é concluído em 1 segundo;
  • O processo de pulverização catódica pode ser exibido usando uma curva, que é clara e intuitiva.
  1. Intertravamento de software e hardware, prevenindo operação incorreta, seguro e confiável
  • Quando o grau de vácuo é superior a 100Pa, a proteção a vácuo é ativada e a pulverização catódica é impossível;
  • Quando a corrente de sputtering for superior a 50mA, o processo de sputtering será interrompido;
  • Quando a bomba de vácuo está funcionando, o sistema não pode realizar a operação de desinflação;
  1. Revestimento uniforme e boa condutividade

Parâmetros técnicos:

Tensão de entrada

AC220V±10%,50Hz

Tensão operacional

DC2400V

Potência máxima (motor principal e bomba mecânica)

500W

princípio de trabalho
Sputtering DC

Material de destino opcional

Metais comuns como ouro, platina, prata, cobre, alumínio, chumbo, etc.

Bomba de vácuo

Bomba de vácuo de palhetas rotativas de dois estágios de conexão direta 1L/s

Câmara de vácuo

φ128×130mm

Copo de amostra

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

Tamanho da máquina (comprimento x largura x altura)

424×271×255(mm)

Peso (hospedeiro)

11kg

ambiente de trabalho

Temperatura 5~40℃, umidade <60%

Ambiente de armazenamento

Temperatura -10~60℃, umidade <80%

Gás de trabalho

Ar / Ar

Função protetora

Proteção dupla contra sobrecorrente e vácuo

 

 
 
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